Intel CPU芯片工厂已有多台EUV生产设备 数量保密

过去几年中intel在芯片工艺上被认为落后于台积电、三星，一个重要原因就是没有及时跟进euv工艺，让两家对手抢先量产了7nm、5nm等工艺，不过intel这一年来变化很大，也对euv光刻工艺上心了，加速推进新工艺量产。

anandtech网站的核心编辑???????????????????????????? ????????????????????????????日前受邀参观了intel在俄勒冈州的d1x工厂，他表示在那里看到了一些euv生产设备，不过具体有多少就不能说了，显然这是intel的商业机密，不能对外透露。

1月底，intel宣布了一批euv设备进厂，不过当时进场安装的是欧洲爱尔兰的fab 34晶圆厂，那是一台光刻胶显影设备(lithography resist track)，将与euv极紫外扫描仪搭档，首先为硅晶圆覆上精密的涂层，然后进入euv扫描仪，进行曝光，接着晶圆回到光刻设备，再进行一系列的高精密光显影、清理操作。

爱尔兰的fab 34晶圆厂未来会量产intel 4工艺，也就是之前的7nm工艺，这是intel首个使用euv光刻机的工艺，2023年的14代酷睿metor lake处理器会首发该工艺。

不过intel在euv光刻机上的野心很大，重点会放在下一代euv光刻机上，已经抢先订购了na 0.55高数值孔径euv光刻机，据说成本高达3亿美元，约合19亿元。

相比目前na 0.33的euv光刻机，intel购买的新一代光刻机可以量产更先进的cpu工艺，未来的20a、18a工艺都会用上，最快2025年量产。

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